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掌握FOWLP扇出型晶圓級封裝關鍵技術
掌握FOWLP扇出型晶圓級封裝關鍵技術 暉盛FOWLP清洗解方 攻下近億元訂單國內電漿設備指標廠之一暉盛科技,近幾年在優越電漿技術開發基礎上,不僅成功打進美系半導體大廠供應鏈,取得國際通訊大廠合作機會,且在先進封裝、晶圓級封裝、IC載版封裝、micro LED需求帶動下,讓暉盛科技成為半導體前段製程不可或缺的夥伴,不僅訂單放量成長,整體營運動能強勁。隨著半導體先進封裝製程對於重度蝕刻需求攀升,暉盛科技所掌握FOWLP扇出型晶圓級封裝關鍵技術╱FOPLP(Fan-Out Panel Level Packaging扇出型面板級封裝)不僅可提供業界FOWLP╱FOPLP完整清洗解決方案,尤其FOPLP面板級封裝後勢看俏,暉盛不但可客製化處理面積,最大可處理基板尺寸可達660X660 mm2,是業界最大規格,且搭配EFEM晶圓傳送設備,也讓暉盛科技在兩項技術上,取得近億元訂單。而5G、AI、高效能運算、物聯網、新能源車╱自駕車等新興市場應用,2.5D╱3DWLP IC封裝需求亦隨之成長,暉盛科技在既有電漿技術基礎下,可針對各式5G材料(LCP、PFA、PTFE、ABF)發展高速、高均勻性、低溫製程的捲對捲式電漿去膠渣設備、微細線路之非等向性電漿去膠渣設備,以及5G通訊的屏下指紋辨識電漿極化設備,目前也有大廠訂單在手。有鑑於市場對於電漿設備的要求,不僅是單純處理有機材料,如Epoxy、LCP、Polyimide、PTFE、Solder Mask ╱ Dry Film等活化與粗化,未來可直接進行基板及鍍層材料的乾蝕刻加工,不論是藉由具高濃度自由基、無離子轟擊的大氣式微波電漿噴頭(Microwave Atmospheric Plasma Jet)移除金屬氧化物,或是採用非等向性高密度反應式離子電漿蝕刻(ICP-RIE),去除包括鈦、鋁等金屬、矽、光阻、各種介層填充材(Filler)等應用,暉盛科技都有可對應的解決方案。